جمع التبرعات 15 سبتمبر 2024 – 1 أكتوبر 2024 حول جمع التبرعات

Field Guide to Optical Lithography

Field Guide to Optical Lithography

Chris A. Mack
0 / 5.0
0 comments
كم أعجبك هذا الكتاب؟
ما هي جودة الملف الذي تم تنزيله؟
قم بتنزيل الكتاب لتقييم الجودة
ما هي جودة الملفات التي تم تنزيلها؟
The material in this Field Guide is a distillation of material put together by Chris Mack over the past 20 years, including notes from his graduate-level lithography course at the University of Texas at Austin. This Field Guide details the lithography process, image formation, imaging onto a photoresist, photoresist chemistry, and lithography control and optimization. An introduction to next-generation lithographic technologies is also included, as well as an extensive lithography glossary and a summation of salient equations critical to anyone involved in the lithography industry.

Contents

- Symbol Glossary
- The Lithgraphy Process
- Image Formation
- Imaging into a Photoresist
- Photoresist Chemistry
- Lithography Control and Optimization
- Equation Summary
- Glossary
- Index

الفئات:
عام:
2006
الإصدار:
Spi
الناشر:
SPIE Publications
اللغة:
english
الصفحات:
136
ISBN 10:
0819462071
ISBN 13:
9780819462077
سلسلة الكتب:
SPIE Vol. FG06
ملف:
PDF, 3.30 MB
IPFS:
CID , CID Blake2b
english, 2006
إقرأ علي الإنترنت
جاري التحويل إلى
التحويل إلى باء بالفشل

أكثر المصطلحات والعبارات المستخدمة